1. 왁스 큐티클 :
- 식물은 잎과 다른 노출 된 표면에 왁스 큐티클 층이 있습니다.
-이 큐티클은 민감한 식물 조직에 도달하기 전에 UV 방사선을 반사하고 산란시키는 물리적 장벽으로 작용합니다.
2. 표피 머리 :
- 일부 식물은 잎에 조밀 한 표피 모발이나 트리코 메스가 발생합니다.
-이 머리카락은 단열 층을 만들어 햇빛의 강도를 줄인 기저 조직에 도달하는 데 도움이됩니다.
3. 잎 방향 :
- 식물은 잎의 방향을 조정하여 태양 노출을 줄일 수 있습니다.
- 예를 들어, 일부 잎은 가장 가혹한 정오 광선을 피하면서 아침이나 저녁 태양을 향하도록 지향 할 수 있습니다.
4. 잎 모양 :
- 식물은 직사광선에 노출 된 표면적을 최소화하는 작거나 좁거나 분할 된 잎을 가질 수 있습니다.
-이 적응은 식물에 흡수되는 UV 방사선의 양을 줄입니다.
5. 색소 침착 :
- 식물은 특정 파장의 빛을 흡수하는 엽록소, 카로티노이드 및 안토시아닌과 같은 다양한 안료를 생성합니다.
-이 안료는 천연 선 스크린으로 작용하여 과도한 빛 에너지를 열로 소산합니다.
6. 산화 방지제 :
- 식물은 효소 및 비 효소 화합물을 포함한 항산화 제를 합성하여 UV 방사선에 의해 생성 된 유해한 자유 라디칼을 중화시키는 데 도움이됩니다.
7. DNA 복구 메커니즘 :
- 식물에는 UV- 유도 돌연변이로 인한 손상을 복구 할 수있는 DNA 복구 메커니즘이 있습니다.
- 이러한 메커니즘은 식물의 유전 물질의 무결성을 유지하는 데 도움이됩니다.
8. 생리적 반응 :
- 식물은 스트레스 관련 단백질의 생성 증가, 호환 용질의 축적 및 물 손실을 최소화하기위한 구내 폐쇄와 같은 높은 수준의 UV 방사선에 대한 생리적 반응을 나타낼 수 있습니다.
9. 회피 행동 :
- 경우에 따라 식물은 잎 폴딩 또는 처짐과 같은 회피 행동을 보이며, 햇빛이 강한 햇빛의 기간 동안 태양 노출을 줄일 수 있습니다.
10. 방어 경로 유도 :
-UV 방사선은 식물에서 방어 경로의 활성화를 유발하여 보호 화합물의 합성 및 방어 관련 단백질의 동원을 유발할 수 있습니다.
이러한 메커니즘은 함께 식물에 햇볕에 대한 다양한 방어 및 과도한 태양 방사선의 다른 유해한 영향을 제공하여 다양한 가벼운 환경에서 생존하고 번성 할 수 있습니다.
