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오존 층을 화학적으로 만든 사람은 무엇입니까?

오존층을 손상시키는 인간 화학 물질은 클로로 플루오로 카본 (CFC) 입니다. .

이유는 다음과 같습니다.

* CFC는 매우 안정적입니다 : 그들은 더 낮은 분위기에서 쉽게 분해되지 않습니다.

* 그들은 성층권으로 떠오른다 : 오존층이있는 곳입니다.

* uv 방사선은 그들을 분해합니다 : 이것은 높은 반응성 인 염소 원자를 방출합니다.

* 염소 원자는 오존을 파괴합니다 : 그들은 오존 분자의 파괴를 촉매하여 오존 고갈로 이어집니다.

CFC는 한때 냉매, 에어로졸 및 기타 제품에 널리 사용되었지만 이제 오존층에 대한 영향으로 인해 크게 금지됩니다.

오존 고갈에 기여하는 다른 화학 물질은 다음과 같습니다.

* Halons : 소화기에 사용됩니다.

* 메틸 브로마이드 : 훈증제로 사용됩니다.

* HCFCS (Hydrochlorofluorocarbons) : 이것들은 CFC보다 덜 손상되지만 여전히 오존 고갈에 기여합니다.

이러한 유해한 화학 물질을 단계적으로 폐지하려는 전 세계적 노력 덕분에 오존층은 서서히 회복되고 있습니다.

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