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전자 빔의 충격 지점을 제어하는 ​​것은 무엇입니까?

전자 빔의 영향 지점은 다음을 포함한 인자의 조합에 의해 제어됩니다.

1. 전자기장 :

* 자기장 : 전자 빔 경로를 제어하는 ​​가장 일반적인 방법은 자기장을 통한 것입니다.

* 편향 코일 : 편향 코일이라고하는 전자기는 전자 빔을 특정 방향으로 편향시키는 자기장을 만드는 데 사용됩니다. 이 코일을 통해 흐르는 전류를 조정함으로써 빔은 수평 및 수직으로 조정될 수 있습니다.

* 포커싱 코일 : 코일에 초점을 맞춘 또 다른 유형의 전자석은 전자 빔을 수렴하여 더 작은 지점에 초점을 맞추는 자기장을 생성하는 데 사용됩니다.

* 전기장 :

* 편향 판 : 편향 코일과 유사하게, 편향 판은 전자 빔을 조종하는 전기장을 만듭니다. 그러나 공간 제약이 코일의 사용을 제한하는 장치에서 주로 사용됩니다.

2. 빔 형성 및 초점 요소 :

* 정전기 렌즈 : 이 렌즈는 광학 렌즈에 초점을 둔 방식과 유사하게 전자 빔에 초점을 맞추고 형성하기 위해 정전기 필드를 사용합니다.

* 자기 렌즈 : 자기 렌즈는 일부 응용 분야, 특히 고해상도 현미경에서 빔에 초점을 맞추는 데 사용됩니다.

3. 외부 요인 :

* 진공 환경 : 전자 빔은 빔을 산란시키는 공기 분자와의 충돌을 피하기 위해 진공 상태로 이동해야합니다. 이 진공은 펌프에 의해 유지됩니다.

* 소스 형상 : 전자 공급원의 모양과 크기, 전자가 방출되는 지점은 초기 빔 특성에 영향을 미칩니다.

* 전자 에너지 : 가속 전압에 의해 결정된 전자의 에너지는 또한 빔의 궤적 및 침투 깊이에 영향을 미칩니다.

예 :

* 전자 현미경 : 전자 현미경에서 전자 빔은 매우 작은 물체의 이미지를 생성하기 위해 미세하게 제어됩니다.

* 텔레비전 튜브 : CRT 텔레비전의 전자 빔은 화면을 가로 질러 스캔하여 이미지를 만듭니다.

* 산업 응용 : 전자 빔은 용접, 표면 변형 및 멸균과 같은 산업 공정에 사용됩니다.

키 포인트 : 충격 지점을 제어하는 ​​특정 요인은 적용 및 전자 빔 시스템의 유형에 따라 다릅니다. 그러나 전자기장, 초점 요소 및 진공 환경의 기본 원리는 여전히 중요합니다.

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