거품 부양 과정은 물과의 연관성, 즉 친수성 (물을 좋아하는) 또는 소수성 (수비)의 물질에 따라 물질을 분리하는 데 도움이됩니다. 물과의 연관성 외에, 거품 부양은 재료의 밀도에 달려 있습니다. 집중 과정입니다.
전형적인 거품 부양에는 해방, 컨디셔닝, 부양, 거품 및 분리의 5 가지 단계가 포함됩니다. 미네랄 또는 액체는 일반적으로 공기 및 습윤제를 사용한 거품 부유로 분리됩니다. 불순물 또는 재료는 기포와 결합하여 부양하고 후자는 바닥에 가라 앉습니다.
거품 부양은 실생활에서 광범위한 인식과 적용을 가지고 있습니다. 거품 부유의 일부 사용에는 미네랄, 플라스틱, 하수수 처리 및 재활용 용지가 포함됩니다.
거품 부양
거품 부양은 밀도와 물과의 연관성에 기초하여 물질을 분리하는 농도 과정이다. 이 과정은 주로 원하는 미네랄 성분을 갱단에서 분리하는 데 사용됩니다. 다양한 화학 물질은 신체적 및 화학적 특성이 다릅니다. 이것은 거품 부유를 사용하여 미네랄을 분리하는 원칙입니다.
거품 부유 과정
광석은 거친, 청소 및 청소를 통해 처리되어 불순물이없는 가장 집중된 형태의 원하는 미네랄을 얻습니다.
- 광석은 '해방'이라는 과정을 사용하여 다양한 미네랄로 분리됩니다.
- 원하는 미네랄을위한 소수성 환경은 화학 물질 또는 계면 활성제를 사용하여 생성됩니다. 이 과정을 '컨디셔닝'이라고합니다.
- 물과 개미가있는 슬러지 형태의 미네랄이‘플로 션’이라는 부유 컬럼에 추가됩니다.
- 거품은 공기의 혼입으로 발생하며, 원하는 미네랄 또는 금속 만 기포로 표면에 부상합니다. 이 과정을‘거품’이라고합니다.
- 원하는 미네랄의 최대 농도로 거품을 분리하는 것을 '분리'라고합니다.
거품 부양 열 의미
거품 부양 과정은 '거품 부유 탱크'라고하는 기계적 교반이 제공되는 원통형 또는 직사각형 탱크에서 발생합니다. 처음에는 두 가지 유형의 거품 부유가있었습니다 :공압과 기계적. 공압은 번거롭고 원하는 미네랄의 저급 농축 물을 초래 하였다. 기계식 유형은 디퓨저와 믹서를 사용하면서 저품질의 농도를 제공합니다.
현대 거품 부유 컬럼은 가스 플러싱 (스파르거)으로 바닥의 공기를 제공합니다. 동시에, 광석의 슬러지 형태가 바닥에서 소개됩니다. Slurry의 월풀 움직임은 바닥에서 공기가 홍조로 인한 우수한 혼합을 생성합니다. 부양 컬럼은 공압 또는 기계적 세포보다 더 널리 받아 들여졌습니다. 이전의 모든 형태로부터 거품 부유 컬럼의 주요 변화는 다음과 같습니다.
- 거품을 만들기위한 기계적 교반기가 없습니다.
- 컬럼 셀이 키가 크고 좁아서 충분한 혼합 시간을 허용합니다.
- 가스 거품 또는 공기가 바닥에서 가스가 플러시됩니다 (스파르거)
- 형성된 거품은 상단의 슬러리가 기둥 중간 주위의 바닥에서 기포와 혼합되기 때문에 표면보다 훨씬 깊다. 이것은 미네랄 분자의 완전한 습윤을 보장하고 거품과의 결합 가능성을 증가시킵니다. 또한, 세척수는 거품 위의 표면에 부어집니다.
거품 부유 열 설계
산업 기둥의 일반적으로 높이는 6-14 미터이고 직경은 0.5-5 미터입니다. 기둥이 대규모 생산을위한 경우 높이는 4–4.5 미터이며 직경은 12 미터까지 올라갑니다. 기둥은 물을 씻을 수 있습니다. 세척수는 지름이 4-8mm 인 구멍이있는 팬을 통해 쏟아졌습니다. 이것은 거품 위 20-30cm에 위치하고 있습니다.
원하는 미네랄에서 친수성 갱단 물질을 되찾지 않도록 물 세척이 수행됩니다. 유지 시간은 미네랄이 칼럼에서 보내는 시간입니다. 열의 높이는 보유 시간에 의해 결정됩니다.
거품 부유 칼럼 예에는 Metso Outec, Flsmidth 및 SGS India가 포함됩니다.
거품 부유 컬럼의 한계
- 그들은 기계적 세포처럼 훌륭한 컨디셔닝을 제공하지 않습니다.
- 미세 입자의 부양은 효과적이지 않습니다.
결론
거품 부양은 물과의 연관성 (친수성 또는 소수성)에 기초하여 물질을 분리한다. 공정은 또한 재료의 밀도에 달려 있습니다. 집중 과정입니다. 전형적인 거품 부양에는 해방, 컨디셔닝, 부양, 거품 및 분리의 5 가지 단계가 포함됩니다. 거품 부유의 실제 용도 중 일부에는 미네랄, 플라스틱, 하수수 처리 및 재활용 용지가 포함됩니다.
현대 거품 부양 컬럼은 바닥의 공기를 가스 플러싱 (스파르거)으로 제공하며 동시에 슬러지 형태의 광석이 바닥에서 도입됩니다. 바닥에서 공기가 플러싱되기 때문에 Slurry의 월풀 움직임은 탁월한 혼합을 생성합니다. 거품 부양 컬럼의 한계에는 양호한 컨디셔닝과 미세한 입자의 비효율적 인 부유를 제공하지 않습니다.
