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오존층을 손상시킬 수있는 분자는 무엇입니까?

오존층은 주로 할로겐화 탄화수소에 의해 손상됩니다 , 특히 클로로 플루오로 카본 (CFCS) Halons .

다음은 고장입니다.

* 클로로 플루오로 카본 (CFCS) :냉장고, 에어컨, 에어로졸 및 기타 응용 분야에서 널리 사용되었습니다. 그들은 낮은 대기에서 매우 안정적이지만 성층권에 도달하면 자외선에 의해 분해되어 염소 원자를 방출합니다.

* Halons :이들은 CFC와 유사하지만 염소 대신 브롬을 함유하고 있습니다. 그들은 주로 소화기에 사용되었습니다. 브롬은 염소보다 오존을 파괴하는 데 훨씬 더 효과적입니다.

이 분자가 오존층을 손상시키는 방법 :

1. UV 방사선 : 태양으로부터의 자외선 (UV) 방사선은 성층권에서 이러한 분자를 분해합니다.

2. 자유 라디칼 : 이 파괴는 높은 반응성 자유 라디칼 인 염소 (CL) 또는 브롬 (BR) 원자를 방출합니다.

3. 오존 고갈 : 이 자유 라디칼은 촉매 적으로 오존 분자 (O3)를 파괴하여 산소 (O2)로 변환합니다. 하나의 염소 원자는 수천 개의 오존 분자를 파괴 할 수 있습니다.

오존 고갈에 기여할 수있는 다른 물질 :

* 메틸 브로마이드 : 해충 방제를위한 훈증제로 사용됩니다.

* hydrochlorofluorocarbons (HCFCS) : CFC와 유사하지만 대기 수명이 짧습니다. 그것들은 CFC의 대체물로 도입되었지만 여전히 오존 고갈에 기여합니다.

* 메틸 클로로포름 : 용매 및 세정제로 사용됩니다.

중요한 참고 : CFC, Halons 및 기타 오존-고갈 된 물질이 많은 국가에서 단계적으로 폐지되었지만 수십 년 동안 대기에서 지속될 수 있습니다. 이것은 오존층이 여전히 발생한 손상에서 회복되고 있음을 의미합니다.

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