1. 자연 소스 :
* Quartz : 가장 풍부한 형태의 이산화 실리콘은 자연적으로 석영으로 발견됩니다. 유리 제조, 전자 제품 및 건축과 같은 다양한 응용 분야에서 채굴 및 가공되었습니다.
* 모래 : 모래는 대부분 이산화 실리콘으로 구성됩니다. 콘크리트, 유리 및 기타 재료를 제조하는 데 사용됩니다.
2. 화학 반응 :
* 사트라 클로라이드의 실리콘 가수 분해 (SICL4) : 이 반응은 전자 제품을 위해 매우 순수한 실리콘을 생성하는 데 사용됩니다.
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SICL4 (L) + 2H2O (L) → SIO2 (S) + 4HCL (g)
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* 산소에 실리콘을 태우는 실리콘 : 이 방법은 특정 응용 분야에 대해 고순도 이산화물을 생성합니다.
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si (s) + O2 (g) → sio2 (s)
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* 실리케이트의 분해 : 규산 나트륨 (NA2SIO3)과 같은 특정 실리케이트는 가열되어 분해되어 이산화 규소를 형성 할 수 있습니다.
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Na2SIO3 (S) → SIO2 (S) + NA2O (G)
```
3. 기타 방법 :
* Sol-Gel 프로세스 : 이 방법은 실리콘 화합물의 용액을 사용하여 가수 분해 및 응축되어 이산화 실리콘을 형성하는 것을 포함한다. 에어로젤 및 실리카 나노 입자와 같은 특수 재료를 만드는 데 사용됩니다.
* 플라즈마 에칭 : 이 기술은 혈장을 사용하여 실리콘 웨이퍼를 에칭하여 부산물로서 이산화 실리콘을 생성합니다. 반도체 산업에서 통합 회로를 만드는 데 중요합니다.
방법을 선택할 때 고려해야 할 요소 :
* 순도 : 선택된 방법은 이산화 실리콘의 원하는 순도에 의존한다.
* 수량 : 대규모 생산의 경우 광산 석영 또는 모래 사용이 더 비용 효율적입니다. 고순도가 필요한 특정 응용의 경우 화학적 방법이 선호됩니다.
* 응용 프로그램 : 선택된 방법은 또한 유리 제조, 전자 장치 또는 건축과 같은 이산화 실용의 최종 적용에 따라 다릅니다.
위의 방법은 이산화 실리콘 제조에 대한 일반적인 접근법을 나타냅니다. 특정 세부 사항 및 조건은 원하는 결과에 따라 다릅니다.
