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어떤 인공 물질 고장 오존?

성층권에서 오존을 분해하는 주요 인공 물질은 chlorofluorocarbons (cfcs) 입니다. . 이유는 다음과 같습니다.

* CFC 및 오존 고갈 : CFC는 대기에서 수십 년 동안 생존 할 수있는 매우 안정적인 분자입니다. 성층권에 도달하면 자외선 (UV) 방사선으로 분해됩니다. 이 파괴는 염소 원자를 방출합니다. 염소 원자는 촉매로서 작용하며, 이는 스스로 소비하지 않고 수천 개의 오존 분자를 파괴 할 수 있음을 의미합니다.

다른 인공 물질 :

CFC는 오존 고갈에 가장 중요한 기여자이지만 다른 물질도 다음을 제공합니다.

* Halons : CFC와 유사하게, Halons는 브롬을 함유하며, 이는 염소보다 오존을 파괴하는데 더 효율적이다. 그들은 소화기에 사용되었습니다.

* 메틸 브로마이드 : 농업의 훈증제로 사용되는이 제품은 브롬을 대기로 방출합니다.

* 메틸 클로로포름 : 일단 용매 및 탈지제로 사용되면 오존 고갈에도 기여합니다.

몬트리올 프로토콜 :

1987 년에 서명 된 국제 조약 인 몬트리올 프로토콜은 CFC, Halons 및 메틸 브로마이드를 포함한 대부분의 오존-탈취 물질의 생산을 단계적으로 폐지했다. 이 조치는 속도를 늦추고 결국 오존 고갈을 되돌리는 것으로 인정됩니다.

오존의 중요성 :

성층권의 오존은 태양의 유해한 UV 방사선을 흡수하기 때문에 지구상의 생명에 필수적입니다. 오존층의 고갈은 지구 표면에 도달하는 UV 방사선 수준을 증가시켜 피부암, 백내장 및 기타 건강 문제를 유발할 수 있습니다.

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