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오존층에 어떤 화학 물질에 해를 끼 칩니까?

오존층에 해를 끼치는 주요 화학 물질은 chlorofluorocarbons (cfcs) 입니다. .

작동 방식은 다음과 같습니다.

* CFC는 대기에서 매우 안정적이고 오래 지속됩니다. 이것은 오존층이있는 성층권으로 이동할 수 있음을 의미합니다.

* 성층권에서, 태양으로부터의 자외선 (UV) 방사선은 CFC 분자를 분해하여 염소 원자를 방출합니다.

* 염소 원자는 오존 분자를 파괴하는 촉매로서 작용한다. 단일 염소 원자는 수천 개의 오존 분자를 파괴 할 수 있습니다.

오존층을 손상시키는 다른 화학 물질에는 다음이 포함됩니다.

* Halons : 소화기에 사용됩니다.

* 메틸 브로마이드 : 훈증제로 사용됩니다.

* hydrochlorofluorocarbons (HCFCS) : 냉장 및 에어컨에 사용됩니다.

* 메틸 클로로포름 : 용매로 사용됩니다.

좋은 소식은 몬트리올 프로토콜과 같은 국제 협약이 이러한 오존-탈취 물질의 생산 및 사용을 줄이는 데 도움이되었다는 것입니다. 결과적으로, 오존층이 회복되기 시작했으며,이 세기 중반까지 1980 년 이전 수준으로 돌아올 것으로 예상됩니다.

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