실리콘 테트라 플루오 라이드 (SIF4)는 4 개의 불소 원자에 결합 된 중심 실리콘 원자로 구성된 분자 화합물이다. 실리콘 원자는 불소 원자의 사면형 배열로 둘러싸여 있으며 분자는 비극성이다. 분자 자체는 비극성이지만 분자간 힘을 경험합니다. 이 세력은 반 데르 발스 세력으로 알려져 있습니다.
반 데르 발스 세력은 모든 분자들 사이에서 발생하는 약한 분자간 상호 작용입니다. 여기에는 영구 쌍극자-영구 쌍극자 상호 작용, 유도 쌍극자 유발 쌍극자 상호 작용 및 런던 분산 힘의 세 가지 상호 작용이 포함됩니다.
- 영구 쌍극자 영구 쌍극자 상호 작용 영구 쌍극자가있는 분자 사이에서 발생합니다. SIF4의 경우 분자가 대칭적이고 전하가 균등하게 분포되기 때문에 영구 쌍극자 모멘트가 없습니다. 따라서, 영구 쌍극자 영구 쌍극자 상호 작용은 존재하지 않습니다.
- 유도 쌍극자 유발 쌍극자 상호 작용 일시적인 쌍극자가있는 분자 사이에서 발생합니다. 이러한 임시 쌍극자는 두 분자의 전자 구름이 변동하여 약간 편광 될 때 생성됩니다. 하나의 분자의 전자 구름에서의 변동은 이웃 분자에서 쌍극자를 유도 할 수있다. 이 상호 작용은 상대적으로 약하며 분자가 매우 가까운 경우에만 중요합니다. SIF4에서, 유도 된 쌍극자-유도 쌍극자 상호 작용은 실리콘의 거의 구상 전자 구름으로 인해 세 가지 유형의 반 데르 발스 힘 중 가장 약하다.
- 런던 분산 세력 반 데르 발스 힘 중 가장 강력하고 모든 분자, 심지어 비극성이 아닌 분자들 사이에서 발생합니다. 런던 분산 힘은 분자의 전자 구름의 일시적인 변동으로 인해 발생합니다. 이러한 변동은 순간 쌍극자를 생성 할 수 있으며, 이는 인접 분자에서 쌍극자를 유도 할 수 있습니다. 런던 분산 힘은 SIF4에 존재하며 SIF4 분자 사이의 인력을 담당하는 주요 힘입니다. 런던 분산 력은 일반적으로 더 큰 분자에 대해 더 강하기 때문에 CO2 또는 H2O와 같은 작은 분자보다 SIF4에 대해 더 중요합니다.
요약하면, Sif4에 존재하는 분자간 힘은 van der 발상 세력 입니다. 유도 쌍극자 유발 쌍극자 상호 작용을 포함한다 및 런던 분산 세력 . 영구 쌍극자 모멘트가 없기 때문에 영구 쌍극자-영구 쌍극자 상호 작용은 SIF4에 존재하지 않습니다.
