1. Piezoresponse Force Microscopy (PFM)
* 원리 : 이 기술은 날카로운 팁을 사용하여 강유전성 물질에서 국소 압전 응답을 유도하고 감지합니다. 강유전 전기 도메인에 의해 생성 된 전기장으로 인해 팁의 변위를 측정합니다.
* 장점 : 로컬 도메인 구조에 민감한 높은 공간 해상도.
* 한계 : 표면 지형의 영향을받을 수 있으며 특수 장비가 필요합니다.
2. 소이어-타워 회로
* 원리 : 이 회로는 강유전성 커패시터의 히스테리시스 루프를 측정합니다. 커패시터에 교대 전기장을 적용하고 해당 편광을 측정합니다.
* 장점 : 대량 재료에 간단하고 널리 사용됩니다.
* 한계 : 감도가 낮기 때문에 박막에는 적합하지 않으므로 거시적 샘플이 필요합니다.
3. 편광 전기장 (P-E) 루프 측정
* 원리 : Sawyer-Tower 회로와 유사하지만 고급 계측이 있습니다. 고전성 전기계를 사용하여 강유전성 커패시터의 분극을 측정합니다.
* 장점 : 박막에 적합한 소이어 타워 회로보다 높은 감도.
* 한계 : 특수 장비와 신중한 샘플 준비가 필요합니다.
4. 유전체 분광법
* 원리 : 이 기술은 주파수의 함수로 재료의 유전 상수를 측정합니다. 유전 상수의 주파수 의존성을 분석하여 강유전 특성을 연구하는 데 사용될 수 있습니다.
* 장점 : 박막에 적합한 재료의 유전체 특성에 대한 정보를 제공합니다.
* 한계 : 특수 장비 및 분석이 필요합니다.
5. 두 번째 고조파 생성 (SHG)
* 원리 : 이 기술은 재료의 비선형 광학 응답을 측정합니다. 강유전체는 중심 비대칭 구조로 인해 강한 SHG 신호를 나타낸다.
* 장점 : 강유전 도메인 구조에 민감하며 현장 측정에 사용될 수 있습니다.
* 한계 : 특수 장비가 필요하며 다른 비선형 광학 공정의 영향을받을 수 있습니다.
6. X- 선 회절
* 원리 : X- 선 회절 패턴은 강유전성 물질의 결정 구조 및 도메인 방향을 나타낼 수있다.
* 장점 : 결정 구조 및 도메인 정렬에 대한 정보를 제공합니다.
* 한계 : 특수 장비 및 샘플 준비가 필요합니다.
이것들은 박막의 강유전성을 측정하는 데 사용되는 일반적인 기술 중 일부일뿐입니다. 기술 선택은 특정 응용 프로그램 및 원하는 정보에 따라 다릅니다.
