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리드와 주석이 왜 천천히 부식됩니까?

요인의 조합으로 인해 납과 주석이 천천히 부식됩니다.

1. 보호 산화물 층의 형성 :

- 리드 : 납은 표면에 얇고 조밀하며 비교적 안정적인 산화물 층 (PBO)을 형성합니다. 이 산화물 층은 장벽으로서 작용하여 추가 산화를 방해하고 부식을 늦추었다.

- 주석 : TIN은 또한 산화물 층 (SNO2)을 형성하지만 산화 납보다 덜 안정적입니다. 그러나이 층은 여전히 ​​부식에 대한 상당한 보호를 제공합니다.

2. 낮은 반응성 :

- 리드 : 납은 상대적으로 반응하지 않는 금속으로 산소 및 물을 포함한 다른 물질과 쉽게 반응하지 않습니다. 이 고유 한 낮은 반응성은 느린 부식 속도에 기여합니다.

- 주석 : 주석은 또한 비교적 반응이 좋은 금속이지만 납보다 약간 더 반응성이 높습니다. 그럼에도 불구하고 고유 한 낮은 반응성은 부식에 저항하는 데 도움이됩니다.

3. 패권 :

- 리드와 주석 모두 표면이 환경과 반응하여 보호, 부식 방지 층을 형성하는 "패시베이션"이라는 과정을 겪을 수 있습니다. 이 층은 더 이상 부식이 느려집니다.

4. 특정 환경 조건 :

- 납과 주석은 일반적으로 부식에 저항력이 있지만 부식률은 특정 환경 조건에 의해 영향을받을 수 있습니다. 예를 들어:

- 산 : 납과 주석은 산성 환경에서 부식에 더 취약합니다.

- 고온 : 온도가 높으면 두 금속의 부식 속도를 가속화 할 수 있습니다.

- 소금의 존재 : 염의 존재는 특히 주석의 경우 부식 속도를 증가시킬 수 있습니다.

주목하는 것이 중요합니다.

- 납과 주석은 부식에 완전히 면역되지 않습니다. 그들은 결국 시간이 지남에 따라, 특히 가혹한 환경에서 부식 될 것입니다.

- 천천히 부식하는 동안 부식 제품은 특히 납의 경우 여전히 건강 위험을 초래할 수 있습니다. 따라서 이러한 금속을 처리 할 때는 적절한 예방 조치를 취해야합니다.

전반적으로, 보호 산화물 층, 낮은 반응성, 유동산 및 특정 환경 조건의 조합은 납과 주석의 느린 부식 속도에 기여한다. 이로 인해 부식 저항이 중요한 다양한 응용 분야에 적합합니다.

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