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오존을 손상시킬 수있는 가장 잠재력이있는 물질과 어디에서 발견됩니까?

오존-고갈 물질 :

오존 고갈의 주요 범인은 할로겐화 탄화수소 입니다 , 하나 이상의 할로겐 원자 (불소, 염소, 브롬, 요오드)를 함유하는 유기 화합물입니다.

다음은 가장 손상된 물질과 그 출처의 고장입니다.

1. 클로로 플루오로 카본 (CFCS) :

* 출처 : 냉장고, 에어컨, 에어로졸 스프레이 및 용매로 널리 사용되면.

* 충격 : CFC는 대기에서 매우 안정적이고 수명이 길어 UV 방사선에 의해 분해되는 성층권에 도달하여 오존을 촉매 적으로 파괴하는 염소 원자를 방출 할 수 있습니다.

* 현재 상태 : CFC의 생산 및 사용은 이제 몬트리올 프로토콜에 따라 전 세계적으로 금지되어 있습니다.

2. Halons :

* 출처 : 화재 억제 특성으로 인해 주로 소화기에 사용됩니다.

* 충격 : CFC와 유사하게, Halons는 브롬을 함유하며, 이는 염소보다 오존을 파괴하는데 더 효율적이다.

* 현재 상태 : Halons의 생산 및 사용은 이제 몬트리올 프로토콜에 따라 크게 금지됩니다.

3. 메틸 브로마이드 :

* 출처 : 토양과 작물의 해충을 제어하기위한 훈증제로 사용됩니다.

* 충격 : 메틸 브로마이드는 강력한 오존 고갈 물질입니다.

* 현재 상태 : 생산 및 사용이 단계적으로 폐지되는 동안 일부 필수 용도는 남아 있습니다.

4. Hydrochlorofluorocarbons (HCFCS) :

* 출처 : 냉장 및 에어컨에서 CFC를 대체하는 것으로 사용됩니다.

* 충격 : HCFC는 CFC보다 대기에서 수명이 짧지 만 여전히 오존 고갈에 기여합니다.

* 현재 상태 : HCFC의 생산 및 사용은 몬트리올 프로토콜에 따라 단계적으로 폐지되고 있습니다.

5. 메틸 클로로포름 (CH3CCL3) :

* 출처 : 용매 및 세정제로 사용됩니다.

* 충격 : 메틸 클로로포름은 오존 고갈에 기여합니다.

* 현재 상태 : 메틸 클로로포름의 생산 및 사용은 이제 몬트리올 프로토콜에 따라 주로 금지됩니다.

다른 출처 :

* 산업 공정 : 일부 산업 공정은 오존-고갈 된 물질을 부산물로 방출합니다.

* 화산 : 화산 폭발은 오존 고갈에 기여하는 염소와 브롬 화합물을 방출 할 수 있습니다.

* 자연 소스 : 특정 해양 유기체의 파괴와 같은 일부 자연 과정은 소량의 오존-고갈 물질을 방출 할 수 있습니다.

중요한 참고 : 몬트리올 프로토콜은 많은 오존-탈취 물질의 사용을 성공적으로 줄 였지만, 오존층은 세기 중반에 완전히 회복 될 것으로 예상된다.

오존 수준을 지속적으로 모니터링하고 오존 층의 지속적인 보호를 보장하기 위해 오존 수준을 모니터링하고 나머지 오존-탈취 물질에 대한 잠재적 대체물을 연구하는 것이 중요합니다.

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