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자극 된 상호 소멸 :양전자로 감마선 레이저를 만드는 방법

자극 된 상호 소멸은 포지 트론 빔과 전자 빔이 충돌하여 포지 트론과 전자가 서로를 전멸시키고 감마선을 방출하는 과정입니다. 빔이 충분히 강렬한 경우, 감마선은 추가 감마선의 방출을 자극하여 연쇄 반응과 감마선 레이저의 생성을 초래할 수 있습니다.

자극 된 상호 소멸을 사용하여 감마선 레이저를 만들려면 다음 단계가 필요합니다.

1. 포지트론 빔을 만듭니다. 이는 전자를 높은 에너지로 가속화 한 다음 표적 재료를 공격 할 수있게하여 전자가 포지 트론을 방출하게 할 수 있습니다.

2. 전자 빔을 만듭니다. 이것은 열 방출, 광 방출 또는 전계 방출로 수행 할 수 있습니다.

3. 포지 트론과 전자의 빔을 충돌시킵니다. 이것은 자기 렌즈를 사용하여 빔을 작은 영역에 초점을 맞추면 수행 할 수 있습니다.

4. 추가 감마선의 방출을 자극합니다. 이는 충돌 영역의 한쪽 끝에 고 반성 미러를 배치하여 수행 할 수 있습니다. 감마 광선은 거울 사이에서 앞뒤로 튀어 나와 추가 감마선의 방출을 자극합니다.

포지 트론과 전자의 빔이 충분히 강렬한 경우, 감마선은 감마선 레이저를 생성하기 위해 충분한 수의 추가 감마선의 방출을 자극합니다. 감마선 레이저는 매우 좁은 대역폭과 매우 높은 강도로 감마 광선을 방출합니다.

감마선 레이저에는 의료 영상, 암 치료 및 재료 처리를 포함한 다양한 잠재적 응용 프로그램이 있습니다. 그러나 감마선 레이저의 개발은 여전히 ​​초기 단계에 있으며 실제 응용 분야에 사용되기 전에 많은 도전이 남아 있습니다.

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