* 평형은 자유 에너지가 낮은 측면을 선호합니다 : 순방향 및 역 반응 속도가 같을 때 평형에 도달합니다. 그렇다고해서 농도가 동일하다는 의미는 아닙니다. 평형은 더 낮은 깁스 자유 에너지 (ΔG)와의 반응의 측면을 선호합니다. 이것은 다음과 같은 요소의 영향을받습니다.
* 엔탈피 변화 (ΔH) : 발열 반응 (열 방출)은 평형에서 선호됩니다.
* 엔트로피 변경 (ΔS) : 장애를 증가시키는 반응 (더 높은 엔트로피)이 선호됩니다.
* 평형 상수 (k) : 평형 상수 (k)는 평형에서 상대적인 양의 반응물 및 생성물을 정량화한다.
* k> 1 : 제품은 평형에서 선호됩니다.
* k <1 : 반응물은 평형에서 선호됩니다.
* k =1 : 반응물 및 제품은 대략 같은 양으로 존재합니다.
* 반응 화학량 론 : 균형 잡힌 화학 방정식은 반응물 및 생성물의 두더지 비율을 지시합니다. 예를 들어, 다음과 같은 반응에서
```
a + b <=> 2c
```
평형 상수가 1이라도 50% A + B와 50% C가 없습니다. 1 :1 :2 몰비를 충족시키기 위해 다른 분포가 있습니다.
예 :
평형 상수 (k)와 10의 반응을 상상해보십시오. 이는 제품이 평형에서 강하게 선호된다는 것을 의미합니다. 평형에서는 반응물보다 훨씬 높은 비율의 제품을 찾을 수 있습니다.
요약 :
평형의 위치는 반응물 및 생성물의 상대 자유 에너지에 의해 결정되며, 이는 평형 상수에 반영된다. 이것은 종종 평형에서 반응물과 생성물의 불균형 농도로 이어진다. 50/50 스플릿은 K 값이 1에 가까운 특정 시나리오에서만 발생하는 특별한 경우입니다.
