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알루미늄이 처음에 희석 된 염산과 천천히 반응하는 이유는 무엇입니까?

알루미늄은 알루미늄 산화 알루미늄 (Alloolinum) 의 얇은 보호 층의 존재로 인해 처음에는 희석 된 염산과 천천히 반응합니다. 표면에. 이유는 다음과 같습니다.

* 산화 알루미늄 형성 : 알루미늄은 공기 중 산소와 매우 반응하여 산화 알루미늄의 매우 얇고 결합 된 층을 형성합니다. 이 층은 장벽으로 작용하여 산과의 추가 반응을 방지합니다.

* 초기 느린 반응 : 알루미늄이 희석 된 염산에 노출 될 때, 산은 초기에 산화물 층과 반응하여 염화 알루미늄 (Alcl₃) 및 물을 형성합니다. 산화물 층이 상당히 안정적 이므로이 반응은 비교적 느립니다.

* 장벽을 깨기 : 반응이 진행됨에 따라, 산화물 층은 점차적으로 용해되어 기본 알루미늄 금속을 노출시킨다. 산화물 층이 충분히 약화되면, 산과 알루미늄 사이의 반응이 가속화되어 수소 가스의보다 격렬한 진화를 초래합니다.

여기 단순화 된 설명이 있습니다 :

1. 보호 층 : 산화 알루미늄은 금속의 방패와 같습니다.

2. 산은 방패를 공격합니다 : HCL을 희석하면 방패가 천천히 분해됩니다.

3. 방패가 분해됩니다 : 방패가 약화되면 산은 알루미늄 금속에 도달 할 수 있습니다.

4. 빠른 반응 : 산과 알루미늄 사이의 반응이 더 빨라집니다.

속도에 영향을 미치는 요인 :

* 산 농도 : 산이 산화물 층을보다 쉽게 ​​돌릴 수 있기 때문에 더 높은 농도의 염산은 더 빠르게 반응 할 것이다.

* 온도 : 분자가 더 많은 에너지를 반응하기 때문에 온도를 늘리면 반응 속도가 빨라질 것입니다.

요약하면, 알루미늄의 희석 염산과의 초기 느린 반응은 반응이 빠르게 진행되기 전에 극복되어야하는 보호 산화 산화물 층의 존재에 기인한다.

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