다음은 고장입니다.
* 반응 메커니즘 :
* 황산은 전기성으로 작용하며, 강한 전기성 H3SO4+를 형성하기 위해 양성자 화된다.
*이 전기는 톨루엔의 전자가 풍부한 벤젠 고리를 공격하여 탄수화물 중간체의 형성으로 이어집니다.
* 그 후 탄수화물은 HSO4- (바이 설페이트 이온) 분자에 의해 공격하여 설 폰산 그룹 (SO3H)의 형성으로 이어진다.
* 반응은 오르토 위치 (O-TSA)의 입체 장애로 인해 PARA 위치 (P-TSA)에서 선호됩니다.
* 제품 :
* p- 톨루엔 설 폰산 (P-TSA) :주요 생성물은 파라-치환 된 중간체의 안정성이 높아서 형성되었다.
* O- 톨루엔 설 폰산 (O-TSA) :오르토 위치에서의 입체 방해로 인해 형성된 사소한 제품.
참고 : 반응 조건 (온도, 농도 및 시간)은 생성물 비율에 영향을 줄 수 있으며 톨루엔 디 설 폰산과 같은 다른 사소한 제품으로 이어질 수도 있습니다.
전반적으로, 황산과의 톨루엔의 반응은 수많은 응용 분야에서 널리 사용되는 산업 화학 물질 인 p- 톨루엔 설 폰산 생산의 핵심 과정이다. .
