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특히 화학 물질을 만든 사람은 오존층을 파괴합니까?

오존층을 특히 파괴하는 인간이 만든 화학 물질은 클로로 플루오로 카본 (CFC) 입니다. .

이유는 다음과 같습니다.

* 오존 고갈 메커니즘 : CFC는 냉매, 에어로졸 및 폼 단열에 널리 사용되는 CFC는 성층권에 도달 할 때 염소 원자를 방출합니다. 이들 염소 원자는 촉매로서 작용하여 오존 분자 (O3)를 산소 분자 (O2)로 분해하여 오존층을 효과적으로 얇게한다.

* 긴 수명 : CFC는 매우 안정적이며 수십 년 동안 대기에서 지속될 수있어 성층권으로 이동하여 손상을 일으킬 수 있습니다.

* 글로벌 영향 : 오존층의 파괴는 CFC가 장거리 여행을하고 지구 전체에 영향을 줄 수 있기 때문에 세계적인 문제입니다.

중요한 참고 : CFC가 1 차 범인 이었지만, Halons, Methyl Bromide 및 Hydrochlorofluorocarbons (HCFC)와 같은 다른 오존-탈취 물질 (ODS)도 역할을했습니다.

CFC 및 기타 ODS의 생산 및 사용을 단계적으로 폐지 한 몬트리올 프로토콜과 같은 국제 협약 덕분에 오존층은 서서히 회복되고 있습니다.

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