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자극 된 상호 소멸 :양전자로 감마선 레이저를 만드는 방법

자극 된 상호 소멸은 포지 트론과 전자가 자극 된 방식으로 서로를 전멸시켜 감마선을 생성하는 과정입니다. 이 프로세스는 감마선 레이저를 만드는 데 사용될 수 있으며, 이는 감마선의 빔을 방출하는 장치입니다.

자극 된 상호 소멸 감마선 레이저를 만들려면 고밀도의 포지 트론과 전자를 만들어야합니다. 이것은 고 에너지 광자가 핵과 상호 작용하여 한 쌍의 포지 트론과 전자를 생성하는 쌍 생산 공정을 사용하여 수행 할 수 있습니다. 그런 다음 포지 트론과 전자는 자기장에 갇혀 서로 상호 작용하여 멸절 될 수 있습니다.

포지 트론과 전자가 소멸 될 때, 그들은 두 입자의 나머지 질량 인 1.022 mev 인 총 에너지를 가진 2 개의 감마선을 생성합니다. 이 감마선은 다른 포지 트론 및 전자와 상호 작용하여 더 많은 감마선을 멸망시키고 생성 할 수 있습니다. 이 과정은 연쇄 반응으로 이어질 수있어 감마선의 빔이 방출 될 수 있습니다.

감마선 레이저는 의료 이미징, 재료 과학 및 국가 안보를 포함한 다양한 응용 프로그램에 사용할 수있는 강력한 도구입니다. 그러나 잠재적으로 위험한 장치이기도하며 사용할 때주의를 기울여야합니다.

자극 된 상호 소멸 과정에 대한 자세한 설명은 다음과 같습니다.

1. 고 에너지 광자는 핵과 상호 작용하여 한 쌍의 포지 트론과 전자를 생성합니다.

2. 포지 트론과 전자는 자기장에 갇혀 서로 상호 작용하고 멸절시킬 수 있습니다.

3. 포지 트론과 전자가 소멸 될 때, 그들은 두 입자의 나머지 질량과 동일한 총 에너지를 가진 2 개의 감마선을 생성합니다.

4.이 감마선은 다른 포지 트론 및 전자와 상호 작용하여 더 많은 감마선을 멸절시키고 생성 할 수 있습니다.

5.이 과정은 연쇄 반응으로 이어질 수있어 감마선의 빔이 방출 될 수 있습니다.

감마선 레이저는 의료 이미징, 재료 과학 및 국가 안보를 포함한 다양한 응용 프로그램에 사용할 수있는 강력한 도구입니다. 그러나 잠재적으로 위험한 장치이기도하며 사용할 때주의를 기울여야합니다.

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