전자 첨가 메커니즘

유기 화학에서는 Alkenes, alkynes 등과 같은 여러 종류의 요소가 있습니다. 각 요소는 다른 행동을 나타내며 특성이 다릅니다. 알켄은 다른 반응을 겪습니다. 첨가 반응은 서로 상호 작용하는 둘 이상의 분자 사이에 강한 반응을 형성합니다. 결과 분자를 부가 물이라고합니다. 유기 화학에서는 주로 두 가지 유형의 반응이 발생합니다.  이것들은-

• 전자 첨가 반응
• 친 핵성 첨가 반응

전자 첨가 반응 :2 개의 새로운 시그마 (σ) 결합을 함유하는 화학 화합물의 형성과 함께 전기성에 의해 기판이 처음에 공격을받는 첨가 반응이다.

알켄은 적어도 하나의 이중 결합을 함유하는 불포화 탄화수소 그룹을 구성한다. 이중 결합의 결과로, 알켄은 추가 반응을 겪습니다. 알켄에 존재하는 PI 전자의 도움으로 탄소 원자의 이중 결합으로 전기가 공격 할 때.

전자 성 첨가 반응 메커니즘

1 단계- 전자 성 첨가 반응 메커니즘의 첫 단계에서, 이중 결합으로부터의 2 개의 PI 전자는 HX (X =Cl, Br, I) 전기에서 H를 공격한다. 2 개의 PI 전자는 HX로부터의 H와 이중 결합으로부터의 탄소 사이의 C-H 시그마 결합을 형성한다.

동시에, H-X 결합으로부터의 전자는 할로이 드 음이온을 형성하기 위해 할로겐으로 이동한다. 이 단계는 탈 양성자 단계로 알려져 있습니다.

2 단계- 탄수화물 형성된 것은 전기성으로서 작용하고 친 핵성 할라이드 이온으로부터 한 쌍의 전자를 수용한다. 전자 쌍은 Electrophile 첨가의 알킬 할라이드 생성물을 중화시킴으로써 X-C 시그마 결합이된다.

모든 할라드 (HBR, HCL, HI, HF)는이 반응에 참여하고 동일한 방식으로 추가하지만 다른 할라 드는 반응 속도가 다르기 때문에 X X 결합이 궤도의 겹치지 않아 x가 증가함에 따라 H-X 결합이 약해짐에 따라 반응이 다릅니다.

일반적으로, 수소 할라이드는 -

                                            안녕하세요> hbr> hcl

알켄의 전자 첨가 반응

알켄은 광범위한 경사체 첨가 반응을 나타냅니다. HBR과 같은 수소 할라이드의 첨가

Ethene과 같은 대칭 알켄의 경우 프로펜과 같은 비대칭 알켄과 비교하여 최종 생성물을 쉽게 예측할 수 있습니다.

예를 들어-

                  CH2 =CH2+ H-BR → CH3-CH2-BR

전자 첨가 반응 속도는 다음 요인에 따라 다릅니다.

1. 할로겐의 변화 :

      반응 속도는 HF에서 HI로 증가하면서 HF에서 HI로 이동하면 결합 강도가 떨어집니다. H-F 결합은 강하고 쉽게 깨질 수 없습니다.

2. Alkene의 변화 :

       이중 결합의 양쪽 끝에서 알킬기의 수가 증가함에 따라, 속도 반응이 증가한다.

알켄 메커니즘의 전자 첨가 반응에 대한 예는-

• 수소화
• 할로겐화
• 사이클로 프로파 팬
• 하이드 록 실화
• 수화
• 산화

알켄의 산화 반응

전자성 첨가 반응을 사용한 케톤 및 알코올의 형성 :

케톤 및 알코올의 형성은 칼륨 과망간산염을 사용하여 산화 상태에서 전자 성 첨가 반응을 사용하여 발생합니다. 칼륨 과망간산염이 산성 상태에 있다면, 케톤은 산화의 결과로 생성되는 반면, 칼륨 과망간산산염이 수성 상태 인 경우 알켄은 산화되어 글리콜을 생성합니다.

질화 메커니즘 :

질화는 니트로 그룹을 방향족 고리로 대체하는 것입니다. 질화는 방향족 치환 반응이다. 전자 유전 적 치환 반응의 메커니즘입니다. 대체는 전기 첨가를 포함합니다.

그 메커니즘은 다음과 같습니다.

1 단계- 첫 번째 단계에서 전기성이 생성됩니다. 첫 번째 단계는 느리고 가역적입니다. 결합의 파손으로 인해 활성화 에너지의 장벽이 형성된 결과로 프로세스가 느려집니다.

2 단계 - 시그마 (σ) 복합체는 다음 단계에서 형성됩니다. 반응 과정의 빠른 단계입니다. 불안정한 생성물로 전환되는 안정적인 방향족 화합물이 형성된다. 제품이 제품을 형성하기 위해 재조합 할 수 있기 때문에 가역적 단계입니다. HSO-4 형태의 기본은 복잡한 형태를 돕습니다.

3 단계-재 교정

전자 성 치환 반응의 메커니즘 :

전자 성 치환 반응은 기능적 그룹이 화학 화합물에 부착 된 전기성으로 대체되는 반응이다. 기능 그룹은 주로 h-atom입니다. 전자 성 치환 반응은 주로 3 단계 메커니즘 프로세스입니다. 

다음 단계는 -

1. 전기 알루미늄 클로라이드의 생성은 염소화, 알킬화 및 아실화 과정으로부터 전기 생성의 생성에서 루이스 산 역할을한다. 이로 인해 각각의 전기 - CL+, R+및 RC+O가 생성됩니다.

1. 탄수화물 형성 (중간 단계)- 전기성이 링을 공격 할 때 시그마 복합체 또는 아레 늄 이온이 형성됩니다. 아레늄 이온은 공명 구조에서 안정적이된다. 방향족 특성은 SP3 하이브리드 화 탄소의 비편 재화로 손실됩니다.

1. 양성자 형태의 제거 중간체- 잃어버린 방향족 특성을 회복시키기 위해 양성자는 [ALCL4]- 시그마 복합체 (SP3 하이브리드 화)로부터 방출됩니다. 따라서 Electrophile은 벤젠 고리의 수소 원자를 대체합니다.

유형의 전자 성 치환 반응 -

1. 전자 성 방향족 치환 반응 :전자 성 방향족 치환 반응에서, 원자는 방향족 고리에 부착 된 전기로 대체된다. 화합물의 방향족은 전자 성 방향족 치환에서 보존된다. 따라서, 이러한 유형의 암송은 방향족 고리와 요오드, 브롬 또는 염소로부터 아릴 할라이드를 얻는 데 사용됩니다.

예를 들어, 방향족 질화, 설 폰화, Friedel-Crafts 반응.

1. eliphatic 치환 반응 :Electophilic Faliphatic 치환 반응에서 전기성은 기능적 그룹을 대체합니다. 기능 그룹은 일반적으로 수소 원자입니다. 전자 성 치환은 잎 그룹과 180o의 각도로 발생하는 전기성에 의해 공격 할 때 구성의 역전을 초래한다.
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 이 반응은 다음 유형으로 분류되었습니다-

1. 케톤의 발성

2. 질산
3. 케토 에놀 호변 이성질체
4. C-H 결합으로의 카르 벤
5. Diazonium 커플 링

결론

이들은 전자 성 첨가 반응에서 알켄을 사용하여 형성 될 수있는 몇 가지 유기 화학 반응이다. 주기율표의 각 요소는 산화 반응의 경우와 같이 다양한 상태에서 다른 방식으로 반응합니다. 따라서 각 반응은 일상 생활과 상업적 목적에서 자체 중요성을 가지고 있으므로 그 메커니즘을 이해하는 것이 중요합니다.