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어떤 유형의 화합물이 오존층에 손상을 일으키는가?

오존층 손상의 주요 원인은 할로겐화 탄화수소 입니다. , 특히 클로로 플루오로 카본 (CFCS) Halons .

이유는 다음과 같습니다.

* 오존 고갈 메커니즘 : 이들 화합물이 성층권에 도달하면 (오존층이 존재하는 곳), 자외선 (UV)에 의해 분해된다. 이 공정은 오존 분자를 파괴하는 연쇄 반응에서 촉매로서 작용하는 염소와 브롬 원자를 방출한다.

* cfcs 및 halons : CFC와 Halons는 대기에서 매우 안정적이고 오래 지속되므로 성층권에 도달하여 수십 년 동안 지속될 수 있습니다. 이것은 시간이 지남에 따라 상당한 오존 고갈을 일으킬 수 있음을 의미합니다.

* 다른 오존 고갈 물질 : 메틸 브로마이드와 같은 다른 화합물 , 메틸 클로로포름 hydrochlorofluorocarbons (hcfcs) 또한 CFC 및 Halons보다 적은 정도로 오존 고갈에 기여합니다.

주목하는 것이 중요합니다 : 몬트리올 프로토콜은 많은 오존 고갈 물질의 생산 및 사용을 단계적으로 폐지했지만, 이러한 화학 물질 중 일부는 대기에 남아 있습니다. 따라서, 오존층은 여전히 ​​회복되고 있지만, 세기 중반까지 1980 년 이전 수준으로 돌아올 것으로 예상된다.

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