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실리콘과 게르 늄을 재배하기위한 보호 대기로 어떤 가스가 사용됩니까?

실리콘과 게르마늄을 재배하기위한 보호 대기로 사용되는 가장 일반적인 가스는 수소 (H2) 입니다. .

이유는 다음과 같습니다.

* 불순물 감소 : 수소는 강력한 환원제 역할을하며 산소 및 기타 불순물과 실리콘 및 게르마늄의 결정 품질을 저하시킬 수있는 기타 불순물을 제거합니다.

* 산화를 방지합니다 : 수소는 성장하는 결정 표면에서 산화물 형성을 효과적으로 예방하여 결정 구조가 그대로 유지되도록합니다.

* 결정 성장을 향상시킵니다 : 수소는 소스 물질과 성장하는 결정 사이의 반응을 촉진함으로써 증착 과정에 도움이 될 수 있습니다.

수소가 가장 흔하지 만 특정 성장 공정 및 원하는 결정 특성에 따라 다른 가스가 사용될 수 있습니다. 몇 가지 예는 다음과 같습니다.

* 질소 (N2) : 불활성 가스로 사용됩니다. 특히 산소 오염이 문제가 될 때.

* 아르곤 (AR) : 비활성 캐리어 가스로 사용되는 질소와 유사합니다.

* 헬륨 (HE) : 특정 특수 응용 분야에서 캐리어 가스로 사용할 수 있습니다.

* 염소 (CL2) 또는 염화수소 (HCl) : Siemens 프로세스와 같은 특정 실리콘 성장 공정에 사용하여 결정 순도를 향상시킵니다.

특정 가스 혼합물 및 성장 조건은 원하는 결정 품질 및 특성을 달성하는 데 중요합니다.

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