다음은 프로세스의 고장입니다.
1. 프탈산 무수물에 대한 벤젠의 산화 :
* 촉매 : 바나듐 펜 독수 (v₂o₅)는 일반적으로 촉매로 사용됩니다.
* 조건 : 고온 (약 350-450 ° C)과 고압 (약 1-5 ATM)이 필요합니다.
* 반응 : 벤젠은 촉매의 존재 하에서 산소 (O₂)와 반응하여 프탈산 무수물을 형성한다.
2. 프탈산 무수물의 가수 분해 :phthalic acid :
* 조건 : 이 단계는 일반적으로 프탈릭 무수물을 물로 처리하여 수행됩니다.
* 반응 : 프탈산 무수물은 물과 반응하여 프탈산을 생성합니다.
전반적인 반응 :
벤젠 + 3O → 프탈릭 무수물 + H₂O → phthalic acid
중요한 메모 :
*이 과정은 매우 발열 적이며 상당한 양의 열이 발생합니다.
* 폴리 에스테르, 가소제 및 기타 화학 물질의 생산에 사용되는 프탈릭 무수물 생산을위한 중요한 산업 공정입니다.
대체 방법 :
벤젠의 산화가 가장 일반적인 방법이지만, phthalic acid를 합성하는 다른 방법은 다음을 포함합니다.
* 나프탈렌의 산화 : 이 방법은 출발 물질로서 벤젠의 가용성으로 인해 덜 일반적입니다.
* 프탈로 니트릴의 가수 분해 : 이것은 프탈로 니트릴 비용이 높기 때문에 덜 효율적인 방법입니다.
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