1. 연마제 및 잔해 제거 :
* 연삭 및 연마 연산은 연마 입자 (연삭 종이 또는 연마 천으로부터)와 샘플 자체에서 금속 잔해물을 생성합니다. 이들 입자는 샘플의 표면에 내장되어 후속 연마 단계를 방해 할 수있다.
* 철저하게 세척되지 않으면이 입자는 표면을 긁을 수있어 결과가 부정확하고 미세 구조를 가릴 수 있습니다.
2. 오염 방지 :
* 표면에 연마성 잔류 물을 남겨두면 다음 연마 단계가 오염되어 외래 입자 또는 화학 물질을 샘플에 도입 할 수 있습니다. 이는 광택의 품질에 영향을 줄 수 있으며 미세 구조 분석을 변경할 수 있습니다.
* 다른 연마 용액을 사용하는 경우 한 용액의 잔류 물이 다음과 상호 작용하여 예측할 수없는 결과를 초래할 수 있습니다.
3. 광택의 적절한 접착 보장 :
* 깨끗하고 건조한 표면은 다음 연마 용액이 샘플에 제대로 부착 될 수 있도록합니다. 이것은 부드럽고 균일 한 마감 처리에 중요합니다.
4. 에칭 아티팩트 방지 :
* 잔류 연마 입자는 샘플 준비의 최종 단계에서 사용되는 에칭 용액과 반응 할 수 있습니다. 이로 인해 아티팩트를 에칭으로 이어질 수있어 미세 구조를 정확하게 해석하기가 어려워집니다.
5. 이미지 품질 향상 :
* 깨끗하고 건조한 샘플은 빛을보다 효과적으로 반영하여 현미경에서 볼 때 더 명확하고 상세한 이미지를 만듭니다. 이것은 고해상도 분석에 특히 중요합니다.
요약 :
각 분쇄 및 연마 단계 사이의 세척 및 건조 금속 샘플은 다음과 같이 필수적입니다.
* 연마 입자와 잔해 제거.
* 오염 방지.
* 광택의 적절한 접착력 보장.
* 에칭 아티팩트를 피하십시오.
* 이미지 품질 향상.
이러한 신중한 절차를 따르면 금속계 분석에서 정확하고 신뢰할 수있는 결과를 얻을 수 있습니다.
