1. 황산 알루미늄 형성 :
* 황산 (HASSOA)이 알루미늄 (AL)과 접촉하면 화학 반응이 발생하여 알루미늄 설페이트 (ALA (SOT) ₃) 및 수소 가스 (HAT)를 생성합니다. 이 반응은 매우 발열이므로 열을 방출하여 부식 과정을 더욱 가속화시킵니다.
2. 패시베이션 층 :
* 알루미늄은 자연적으로 표면에 얇고 보호 된 산화물 층 (Allool)을 형성하여 부식에 대한 장벽으로 작용합니다. 그러나, 황산은이 산화물 층, 특히 더 높은 농도 에서이 산화물 층을 용해시킬 수있다. 패시베이션 층이 제거되면 알루미늄 금속이 노출되어 추가 공격에 취약합니다.
3. 황산의 농도 :
* 황산의 농도는 중요한 역할을합니다. 희석 된 황산 (최대 약 5%)은 실제로 알루미늄을 수동하여 산화 산화물 층을 형성 할 수 있습니다. 이것이 일부 응용 분야에서 알루미늄을 희석 황산과 접촉하는 데 사용될 수있는 이유입니다.
그러나 농축 황산 (5%미만)은 알루미늄을 쉽게 공격하여 산화물 층을 용해시키고 빠른 부식을 초래할 것입니다.
4. 온도 :
* 온도가 증가하면 반응 속도가 가속화되어 부식이 빨라집니다.
5. 불순물의 존재 :
* 알루미늄 또는 황산에 불순물의 존재는 부식 과정을 추가로 가속화 할 수 있습니다. 예를 들어, 클로라이드 이온 (CL)의 존재는 부식 속도를 상당히 증가시킬 수 있습니다.
요약 :
황산은 보호 산화 층을 용해 시켜서 알루미늄을 부식시켜 금속을 추가 공격에 노출시킨다. 부식 속도는 산, 온도 및 불순물의 존재에 의해 영향을받습니다.
참고 : 황산은 알루미늄을 부식시킬 수 있지만 일부 특수 알루미늄 합금은 황산을 포함하는 특정 환경에서 부식에 저항하도록 설계되었습니다.
